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Mostrando ítems 11-20 de 31
Estudo comparativo do comportamento elétrico entre os MOSFETS dos tipos wave e convencionais equivalentes operando em ambientes de radiações ionizantes
(Centro Universitário FEI, São Bernardo do Campo, 2016)
Neste trabalho realizou-se um estudo comparativo experimental entre um novo estilo de leiaute para ser empregado em Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistors (MOSFETs), denominado de Wave, cujo formato de porta é ...
Associação série e análise de descasamento em transistores SOI MOSFET de canal gradual operando em saturação
(Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2011)
Estudo experimental do OCTO SOI MOSFET para a implementação de circuitos integrados analógicos e digitais
(Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2012)
Neste trabalho é estudado o inovador dispositivo OCTO SOI MOSFET (OSM) e suas devidas perspectivas de implementação em circuitos integrados analógicos e digitais. O OSM surgiu da necessidade de melhoria de determinadas ...
Estudo comparativo experimental entre o casamento do SOI nMOSFETs do tipo diamante do tipo diamante e dos seus respectivos convencionais equivalentes
(Centro Universitário da Fei, São Bernardo do Campo, 2013)
O MOSFET de geometria de porta hexagonal (estilo de leiaute do tipo Diamante) foi especialmente projetado com o objetivo de melhorar o desempenho elétrico desses transistores, em comparação ao transistor de geometria de ...
Distorção harmônica entre os MOSFETs implementados com os estilos de leiaute do tipo diamante híbrido e convencionais
(Centro Universitário FEI, São Bernardo do Campo, 2019)
Na atualidade, há diferentes frentes de pesquisa (uso de novas estruturas de transistores, novos materiais, etc.) quer nas instituições de ensino, quer nos centros de pesquisa, visando a redução das dimensões do Transistor ...
Análise de descasamento nas características elétricas de SOI nMOSFET de canal gradual operando em saturação
(Centro Universitário FEI, São Bernardo do Campo, 2017)
Os transistores da tecnologia Silício-sobre-Isolante (SOI Silicon-On-Insulator) apresentam vantagens em relação à tecnologia CMOS (Complementary Metal-Oxide-Semiconductor) convencional (BULK), tais como diminuição do ...
Análise da densidade de carga de inversão na condição limiar, em função da temperatura, em UTBB SOI MOSFETS
(Centro Universitário FEI, São Bernardo do Campo, 2019)
Para suprir a crescente demanda de velocidade, desempenho e baixo consumo, a indústria de circuitos integrados tem se desenvolvido de forma agressiva nos últimos anos, consolidando a tecnologia CMOS como fator essencial ...
Simulação e caracterização elétrica de diodos de ultra baixa potência implementados em tecnologia SOI
(Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2013)
Os dispositivos SOI CMOS estão entre os transistores planares de melhor desempenho, graças à presença de uma camada de óxido enterrado abaixo da região ativa da lâmina, que minimiza os efeitos causados pela redução das ...
Influência de parâmetros tecnológicos e geométricos sobre o desempenho de transistores SOI de canal gradual
(Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2015)
Este trabalho tem como objetivo estudar a influência de parâmetros tecnológicos, geométricos e de polarização sobre o comportamento analógico dos transistores Silício-Sobre-Isolante nMOSFET de Canal Gradual (GC SOI), ...
Modelagem, simulação e caracterização elétrica da associação série assimétrica de transistores SOI
(Centro Universitário FEI, São Benardo do Campo, 2018)
Este trabalho tem como objetivo o estudo do desempenho analógico da associação série assimétrica (A-SC) composta por transistores planares e de múltiplas portas em tecnologia Silício-Sobre-Isolante (SOI). A estrutura A-SC ...