[pt] INCORPORAÇÃO SUPERFICIAL DE NITROGÊNIO EM FILMES DLC TRATADOS EM PLASMA DE RADIO FREQÜÊNCIA

VICENTE AGUSTIN ATOCHE ESPINOZA

[en] SUPERFICIAL INCORPORATION OF NITROGEN IN FILM DLC TREATED IN PLASMA OF RADIO FREQUENCY

dc.contributor	FERNANDO LAZARO FREIRE JUNIOR
dc.creator	VICENTE AGUSTIN ATOCHE ESPINOZA
dc.date	2003-09-09
dc.date.accessioned	2022-09-21T21:41:55Z
dc.date.available	2022-09-21T21:41:55Z
dc.identifier	https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=3884@1
dc.identifier	https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=3884@2
dc.identifier	http://doi.org/10.17771/PUCRio.acad.3884
dc.identifier.uri	https://hdl.handle.net/20.500.12032/42200
dc.description	[pt] Filmes de carbono amorfo hidrogenados, (a - C: H) e nitrogenados,) ( a - C: H(N) - depositados pela técnica Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) em atmosferas de metano e metano-nitrogênio foram submetidos a tratamento em plasmas de N2. A influência de vários parâmetros foi investigada: a pressão da câmara, tensão de autopolarização e tempo de exposição. A taxa de erosão determinada por perfilometria. A taxa aumenta com a tensão e tende a saturar-se para altas pressões. A incorporação de nitrogênio foi medida por reação nuclear. O resultado indica um decréscimo no conteúdo de N com o aumento da tensão de autopolarização e pode ser explicado pelo aumento da erosão química e física. As ligações químicas foram analisadas por XPS e dois ambiente podem ser identificados: um com átomos de N rodeado por átomos de C e o outro com átomos N ligado ao H. A modificação da rugosidade da superfície e coeficiente de atrito foi caracterizada por Microscopia de Força Atômica (AFM). A rugosidade da superfície é independente do valores de autopolarização, quando o coeficiente de atrito decresce com o aumento da tensão de autopolarização.
dc.description	[en] Amorphous Hydrogenated carbon films (a - C: H) and nitrogenated films ) (a - C: H(N) - deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition in 4 CH and CH4-N2 atmospheres were submitted to nitrogen r.f.- plasma treatment. The influence of several parameters was investigated: the chamber pressure, the self-bias voltage and the exposure time. The erosion rate was determined by profilometry. It increases as the self-bias increases and tends to saturate for higher pressures. The nitrogen incorporated in the films was measured by nuclear reation analysis. The results indicate a decrease in the N content a the self-bias increase that can be atributted toen increase of the sputtering yield. The chemical bonds were probed by XPS and two chemical environments can be identified, one with N atoms surrounded by C atoms and the other one with N atoms binding to H. Surface roughness and friction coefficient modifications were followed by atomic force and lateral force microscopies. The surface roughness is independent on the value of the self-bias voltage, while the friction coefficient slightly decreases.
dc.language	pt
dc.publisher	MAXWELL
dc.subject	[pt] CARBONO AMORFO
dc.subject	[pt] ANALISES POR FEIXE DE IONS
dc.subject	[pt] PLASMA
dc.subject	[pt] IMPLANTACAO DE IONS
dc.subject	[en] AMORPHOUS CARBON
dc.subject	[en] BEAM ANALYZES
dc.subject	[en] PLASMA
dc.subject	[en] ION IMPLANTATION
dc.title	[pt] INCORPORAÇÃO SUPERFICIAL DE NITROGÊNIO EM FILMES DLC TRATADOS EM PLASMA DE RADIO FREQÜÊNCIA
dc.title	[en] SUPERFICIAL INCORPORATION OF NITROGEN IN FILM DLC TREATED IN PLASMA OF RADIO FREQUENCY
dc.type	TEXTO

Ficheros en el ítem

Ficheros	Tamaño	Formato	Ver
No hay ficheros asociados a este ítem.

Este ítem aparece en la(s) siguiente(s) colección(ones)

Documentos - PUC-RIO

Mostrar el registro sencillo del ítem