Estudo do efeito de redução de barreira induzida pelo dreno em temperaturas criogênicas para transistores SOI ultra-submicrométricos

dc.contributor.advisor	Pavanello, M. A.
dc.contributor.author	Silva Júnior, J. M.
dc.date.accessioned	2019-03-20T14:01:00Z
dc.date.available	2019-03-20T14:01:00Z
dc.date.issued	2009
dc.identifier.citation	SILVA JÚNIOR, J. M. <b> Estudo do efeito de redução de barreira induzida pelo dreno em temperaturas criogênicas para transistores SOI ultra-submicrométricos. </b> 2009. 96 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2009
dc.identifier.uri	https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/486
dc.language	por
dc.language.iso	pt_BR
dc.publisher	Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo
dc.subject	Baixas temperaturas
dc.subject	Tecnologia de silício sobre isolante
dc.title	Estudo do efeito de redução de barreira induzida pelo dreno em temperaturas criogênicas para transistores SOI ultra-submicrométricos	pt_BR
dc.type	Dissertação	pt_BR

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