Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas
| dc.contributor.advisor | Bellodi, Marcello | |
| dc.contributor.author | Carvalho, Daniel Belo de | |
| dc.date.accessioned | 2019-03-21T12:32:12Z | |
| dc.date.available | 2019-03-21T12:32:12Z | |
| dc.date.issued | 2012 | |
| dc.identifier.citation | CARVALHO, Daniel Belo de. <b> Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas. </b> 2012. 119 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2012 Disponível em: <http://sofia.fei.edu.br/tede/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=274>. Acesso em: 30 out. 2012. | |
| dc.identifier.uri | https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/662 | |
| dc.language | por | |
| dc.language.iso | pt_BR | |
| dc.publisher | Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo | |
| dc.subject | Transistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutor | |
| dc.title | Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas | pt_BR |
| dc.type | Dissertação | pt_BR |
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