dc.contributor.advisor | Pavanello, M. A. | |
dc.contributor.author | Santos, André de Almeida | |
dc.date.accessioned | 2019-03-20T14:01:00Z | |
dc.date.available | 2019-03-20T14:01:00Z | |
dc.date.issued | 2007 | |
dc.identifier.citation | SANTOS, André de Almeida. <b> Impacto da utilização de transistores GC SOI MOSFET como espelhos de correntes para a obtenção de fontes de corrente de alto desempenho em circuitos integrados. </b> <b></b> 2007. 138 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2007 | |
dc.identifier.uri | https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/490 | |
dc.description.abstract | Neste trabalho é apresentado o estudo do impacto da utilização de transistores
fabricados a partir da tecnologia SOI com dopagem assimétrica na região de canal (Graded-
Channel - GC SOI MOSFET) em espelhos de corrente operando como fontes de corrente, nas
arquiteturas já conhecidas da literatura como Fonte Comum, Wilson e Cascode. Para esta
avaliação foram usadas simulações numéricas-bidimensionais e analíticas, além de
comparações com resultados experimentais obtidos neste trabalho, tendo como figuras de
mérito a Precisão de Espelhamento, a Excursão de Saída, a Resistência de Saída e a avaliação
do Tempo de Estabilização dos espelhos de corrente.
Através das simulações e das comprovações experimentais, foi possível observar as
vantagens em se utilizar espelhos de corrente com transistores GC SOI, garantindo uma
melhor precisão de espelhamento, causada pela menor influência de modulação do
comprimento de canal, devida à redução da condutância de dreno dos dispositivos GC SOI.
Com isso, um aumento de até 3 vezes na resistência de saída foi obtido. Estes efeitos serão
apresentados em todas as arquiteturas de espelhos de correntes estudadas. Os resultados da
análise da excursão de saída dos espelhos de correntes apresentaram uma melhora ainda mais
promissora. Em todas as arquiteturas, a excursão de saída apresentou um aumento, em alguns
casos superiores a 50%, comparando com os espelhos de corrente formados por transistores
SOI Convencionais. Este efeito é devido ao aumento da tensão de ruptura nos dispositivos GC
SOI, além da menor tensão de saturação para uma corrente constante. As medidas
experimentais feitas neste trabalho comprovaram a tendência dos valores obtidos nas
simulações de precisão de espelhamento, excursão de saída e de resistência de saída para
dispositivos de comprimento de canal de L=2µm. Utilizando simulações numéricas
bidimensionais, foi feito também um estudo do Tempo de Estabilização do espelho de
corrente. Em todas as arquiteturas estudadas, os espelhos de corrente que trabalharam com os
dispositivos GC SOI apresentaram uma diminuição significativa, da ordem de até 30%,
associada ao aumento expressivo da transcondutância nos dispositivos GC SOI.
Em termos gerais, a utilização do dispositivo GC SOI nas estruturas de espelhos de
corrente conhecidas foi uma excelente alternativa para obtenção de fontes de corrente de alto
desempenho para circuitos analógicos | |
dc.description.abstract | This work presents a study of the impact of using SOI MOSFETs with asymmetrically
doped channel (Graded-Channel - GC SOI MOSFET), in current mirrors operating as current
sources, for architectures already known from literature as Common Source, Wilson and
Cascode. This study has been conducted using two-dimensional and analytical numeric
simulations, besides comparisons with experimental results obtained in this work. The figures
of merit were the mirroring precision, the output resistance and output swing and settling time
of the current mirrors.
Based on the simulations and the observed experimental, we observed advantages in
using current mirrors with GC SOI transistors, ensuring a better mirroring precision, caused
by the smaller influence of channel length modulation, owed to the reduction of the drain
conductance of the GC SOI transistors. Hence, an increase of up to 3 times of the output
resistance was obtained. These effects will be presented for all current mirror architectures
studied. The results of the output swing presented an improvement still more promising. For
all studied architectures, the output swing, in some cases, was higher than 50% compared to
the current mirrors fabricated with conventional SOI transistors. This effect is caused by an
increase of the drain breakdown voltage in the GC SOI transistors. Besides smaller saturation
voltage takes place for a constant current. The experimental measurements corroborated the
simulations of the improved Mirroring Precision, Output Swing and Output Resistance for
channel length of L=2µm. Based on two-dimensional numeric simulations, we studied the
Settling Time of the current mirror for all the studied architectures. The Settling Time of the
GC SOI current mirrors presented a significant decrease of almost 30% that improvement was
due to the expressive increase of the transconductance for GC SOI transistors. In general, the
use of GC SOI transistors in all studied architecture is an excellent alternative to obtain high
performance current sources for analogic circuits | |
dc.language | por | |
dc.language.iso | pt_BR | |
dc.publisher | Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo | |
dc.subject | Transistores | |
dc.subject | Circuitos integrados | |
dc.subject | Transistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutor | |
dc.subject | Tecnologia de silício sobre isolante | |
dc.title | Impacto da utilização de transistores GC SOI MOSFET como espelhos de correntes para a obtenção de fontes de corrente de alto desempenho em circuitos integrados | pt_BR |
dc.type | Dissertação | pt_BR |